UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長(zhǎng)≤105mm的矩形平面。在研磨過(guò)程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng)，同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng)，載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤公轉(zhuǎn)，使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)，使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊，使研磨后的樣品表面也具有高的平面度，并且不會(huì)使樣品邊緣倒角，對(duì)邊緣要求高的樣品尤其適合。UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-80A精密磨拋控制儀），可批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。搭配GPC-80A使用尤其適用于地質(zhì)薄片樣品的研磨與拋光。UNIPOL-1202精密研磨拋光機(jī)可以用研磨盤加磨料的方式研磨樣品，也可以選用拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品，砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡，裝卸方便。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。

主要特點(diǎn)
·超平拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。
·超精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）。
·設(shè)有兩個(gè)加工工位。
·主軸旋轉(zhuǎn)采用無(wú)級(jí)調(diào)速控制方式，并設(shè)有數(shù)顯表實(shí)時(shí)顯示轉(zhuǎn)數(shù)。
·配有定時(shí)器，可準(zhǔn)確控制工作時(shí)間（0-300h之間）。
·可選配自動(dòng)滴料器或循環(huán)泵，使磨拋更加方便快捷。

技術(shù)參數(shù)
1、電源：110V/220V
2、功率：275W 
3、主軸轉(zhuǎn)速：樶低起動(dòng)轉(zhuǎn)速~樶高轉(zhuǎn)速10-125rpm
4、工位：2個(gè)
5、支撐臂擺動(dòng)次數(shù)：0-9次/分
6、托盤端跳：0.008/250mm
7、磨拋盤：?300mm
8、載物盤：?105mm
9、產(chǎn)品規(guī)格：尺寸：長(zhǎng)550mm×寬700mm×高400mm    重量：80kg

安裝條件
本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及下排水
2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地
3、氣：無(wú)
4、工作臺(tái)：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置：不需要

標(biāo)準(zhǔn)配件
鑄鐵研磨盤      1個(gè)
鑄鋁拋光盤      1個(gè)
載物盤            2個(gè)
修盤環(huán)            2個(gè)
拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯） 各1片
剛玉研磨微粉  0.5kg
石蠟棒            4根

可選配件
SKZD-2滴料器
SKZD-3滴料器
SKZD-4自動(dòng)滴料器
SKZD-5滴料器
YJXZ-12攪拌循環(huán)泵
精密測(cè)厚儀
GPC-50A精 確磨拋控制儀
陶瓷研磨盤
玻璃研磨盤
磁性樹(shù)脂金剛石研磨片
無(wú)蠟拋光盤