NanoX-2000采用白光垂直掃描干涉(VSI)、移相干涉技術(PSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)，實現(xiàn)對樣品表面粗糙度、臺階高度、表面輪廓、關鍵部位尺寸及其形貌特征的納米級三維精密測量。廣泛應用于集成電路工藝、航空航天、太陽能電池工藝、材料表面工程、MEMS、超精密加工等領域。
 ● 測量精度重復性高

應用領域：

國內數(shù)家上市企業(yè)12寸產(chǎn)線配置NanoX-2000測試設備

NanoScopy 光機電一體化系統(tǒng)軟件：
       ● 美國硅谷研發(fā)、中英文自由切換
       ● 光機電一體化軟硬件集成
       ● 縮放、定位、平移、旋轉等三維圖像處理
       ● 自主設定測量閾值，三維處理自動標注
       ● 測量模式可根據(jù)需求自由切換
       ● 三維圖像支持高清打印
       ● 菜單式參數(shù)設置，一鍵式操作，人機界面?zhèn)€性直觀
       ● 個性化軟件應用支持
       ● 可進行軟件在線升級和遠程支持服務

滿足您需求而設計的測量設備

覆蓋范圍廣： 兼容多種測量和觀察需求

保護性： 非接觸式光學干涉測量
可操作性：“一鍵式”操作更簡單
智能化：特殊形狀智能計算特征參數(shù)
個性化： 定制化測試報告

更好用戶體驗： 迅捷的售后服務，個性化應用軟件支持

NanoX-2000/3000系列
測量模式	移相干涉（PSI）,白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）
樣品臺	150mm/200mm/300mm樣品臺（可選配） XY平移：± 25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5° 可選手動/電動樣品臺
CCD相機像素	標配：1280x960
視場范圍	560x750um（10x物鏡） 具體視場范圍取決于所配物鏡及CCD相機
光學系統(tǒng)	同軸照明無限遠干涉成像系統(tǒng)
光源	高效LED
Z方向聚焦	80mm手動聚焦（可選電動聚焦）
Z方向掃描范圍	精密PZT掃描（可選擇高精密機械掃描，拓展達10mm）
縱向分辨率	<0.1nm
RMS重復性*	0.005nm, 1σ
臺階測量**	準確度≤0.75%；重復性≤0.1%，1σ
橫向分辨率	≥0.35um（100倍物鏡）
檢測速度	≤35um/sec，與所選的CCD和掃描模式有關

 

中國計量院認證書：