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產(chǎn)品詳情
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  • 產(chǎn)品名稱:CETR - Model eCP-4 電化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 產(chǎn)品廠商:其它品牌
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
CETR - Model eCP-4 電化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)
詳情介紹:

全世界*大磨潤(rùn)設(shè)備生產(chǎn)商─CETR (Center For Tribology Inc.) , 其*新推出之型號(hào) eCP-4為世界開創(chuàng)兼具化學(xué)機(jī)械研磨及電化學(xué)機(jī)械研磨之桌上型機(jī)臺(tái)。機(jī)臺(tái)可用于 CMP , eCMP 制程之研究 及 有關(guān)消耗品之開發(fā)、研究。 全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng),可實(shí)時(shí)分析各種檢測(cè)器之訊號(hào)︰

芯片與研磨墊 或 墊與麿墊片(CMP pad conditioner) 之間動(dòng)態(tài)摩擦系數(shù)量測(cè),從而了解芯片之研磨速度及不均勻性 
在電化學(xué)機(jī)械研磨應(yīng)用時(shí),可實(shí)時(shí)偵測(cè)電流強(qiáng)度及電壓值 
透過音頻輸出檢測(cè)器 ( acoustic emission detector) 所測(cè)得之能量及峰值,可判斷研磨強(qiáng)度及半導(dǎo)體薄膜上極微小之裂縫、脫落 
可實(shí)時(shí)偵測(cè)研磨液及研磨墊之溫度變化 
可實(shí)時(shí)偵測(cè)研磨墊在研磨時(shí)或磨墊時(shí)之磨損深度(pad wear depth)

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