微弧氧化工藝及設(shè)備基本原理及特點(diǎn)是：在普通陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)上，利用弧光放電增強(qiáng)并激活在陽(yáng)極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成上等的強(qiáng)化陶瓷膜的方法。
該方法是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場(chǎng)等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達(dá)到工件表面強(qiáng)化、硬度大幅度提高、耐磨、耐蝕、耐壓、絕緣及抗高溫沖擊特性得到改善的目的。微弧氧化工藝及設(shè)備是一種直接在有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù)，該技術(shù)是*近十幾年在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，但兩者在機(jī)理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質(zhì)，它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強(qiáng)的導(dǎo)電性，且能量集中，溫度較高，是一個(gè)高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽(yáng)極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。
微弧氧化工藝及設(shè)備特點(diǎn)
（1）微弧氧化工藝及設(shè)備大幅度地提高了材料的表面硬度, 顯微硬度在1000至2000HV(維氏硬度)，*高可達(dá)3000HV,可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼，高合金鋼和高速工具鋼的硬度。
（2）良好的耐磨損性能、良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應(yīng)用中的缺點(diǎn)。
（3）有良好的絕緣性能, 絕緣電阻可達(dá)100MΩ。
（4）溶液為環(huán)保型，可達(dá)到零排放標(biāo)準(zhǔn)，符合環(huán)保排放要求。
（5）工藝穩(wěn)定可靠，設(shè)備工藝簡(jiǎn)單。
（6）反應(yīng)在常溫下進(jìn)行，操作方便，易于掌握。
（7）基體原位生長(zhǎng)陶瓷膜，致密均勻，結(jié)合牢固，與基體結(jié)合力達(dá)250-300Mpa。
（8）微弧氧化工藝及設(shè)備柔韌性強(qiáng)，陶瓷層厚30微米的鋁片彎曲成30°角，陶瓷層完好無損；陶瓷層厚100微米的鋁片彎曲斷裂后，陶瓷層不開裂、不脫落。
與陽(yáng)極氧化技術(shù)相比，微弧氧化還具有下列特點(diǎn)：
（1）微弧氧化采用弱堿性溶液，對(duì)周圍環(huán)境不造成污染，屬于清潔加工工藝和環(huán)保型表面處理技術(shù)，微弧氧化中只放出氫氣、氧氣，對(duì)人體無害。
（2）工藝簡(jiǎn)單，特別對(duì)于工業(yè)樣品的預(yù)處理不像陽(yáng)極氧化要求的那樣嚴(yán)格和繁雜，只要求樣品表面去污去油，不需要去除表面的自然氧化層，也不需要表面打磨。
（3）微弧氧化可以一次完成，也可以分幾次完成。特別對(duì)于氧化膜要求很厚的樣品可以分幾次氧化，而陽(yáng)極氧化一旦中斷就必須重新開始。
（4）在陽(yáng)極氧化不易成膜的某些鋁合金如Al-Cu、Al-Si等合金表面，同樣可獲得性能很好的厚膜，尤其在Al-Cu合金表面（如Ly12合金），可以形成高硬度的厚膜，HV可達(dá)到1600以上。
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