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箱式氣氛爐的工作原理

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  箱式氣氛爐適用于金屬,納米,單晶硅,多晶硅,電池等的擴(kuò)散焊接,氣氛熱處理的加熱設(shè)備用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室,在氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。

  箱式氣氛爐以硅碳棒為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和程序控溫系統(tǒng),移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng),能快速升降溫,采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統(tǒng),氣體經(jīng)過流量計(jì)后由后膛進(jìn)出,有多處洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口處有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。

  箱式氣氛爐適用于金屬材料的擴(kuò)散焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。還可用于材料試驗(yàn)、合成、燒結(jié)等;陶瓷材料、粉體材料、金屬陶瓷的真空燒結(jié)。