烘箱適用范圍 烘箱主要用戶半導(dǎo)體光刻工藝中硅片表面改性;增加光刻膠對硅片的黏附性。
產(chǎn)品簡介
烘箱主要用戶半導(dǎo)體光刻工藝中硅片表面改性;增加光刻膠對硅片的黏附性。
技術(shù)參數(shù)
基片尺寸:支持2、3、4、6、8英寸基片及破片
溫度范圍:RT~160℃
溫度精度:+/-1℃@100℃
加熱時間:30min @RT~160℃
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