GDA750 輝光放電光譜儀可以配備60個(gè)以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的要求。  涂（鍍）層的深度可測(cè)量達(dá)200μm。表面分析可獲得的分辨率達(dá)1 個(gè)原子層。分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；化學(xué)成份可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測(cè)定。  

       在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析*理想的手段。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以**地測(cè)量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。
對(duì)于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。 

      GDA750 輝光放電光譜儀可以配備60個(gè)以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的要求。
  涂（鍍）層的深度可測(cè)量達(dá)200μm。表面分析可獲得的分辨率達(dá)1個(gè)原子層。分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；化學(xué)成份可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測(cè)定。
 通過比較技術(shù)涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程*佳化和*大程度地避免廢品和浪費(fèi)。
  GDA 750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成份），為復(fù)雜基體材料的分析提供良好線性的工作曲線。
  采用可選的射頻輝光放電光源，GDA 750 則可用于分析非導(dǎo)電性材料，如陶瓷、玻璃和油漆涂層。