儀器簡(jiǎn)介：

 PHOENIX 全自動(dòng)高溫燃?xì)馊廴跔t(熔樣機(jī))
     • 為XRF制作熔融玻片樣品
     • 為AA和ICP制備樣品溶液
     • 過氧化鈉熔融

 真正的全自動(dòng)熔樣——加入樣品，啟動(dòng)程序后不管——保證全部熔融條件都可重復(fù)！

      X射線熒光分析對(duì)于粉末樣品，目前采用直接壓片法制備試樣較為普遍，但由于粒度、礦物、偏析等效應(yīng)的影響，勢(shì)必帶來分析誤差，降低元素分析的精密度與準(zhǔn)確度，樣品制備已經(jīng)成為一個(gè)主要的誤差因素。玻璃熔融法制成的試樣能消除試樣的粒度、礦物、偏析等效應(yīng)，同時(shí)也可降低樣品元素間的吸收和增強(qiáng)效應(yīng)，會(huì)明顯提高分析的精度和準(zhǔn)確度。對(duì)于ICP、AA和濕法化學(xué)分析手段，對(duì)于難溶樣品，熔融方法同樣是一種非常**的制樣手段。

      整個(gè)熔樣過程影像資料請(qǐng)點(diǎn)擊:http://www.xrfscientific.com/products/products-fusion-instruments.htm

技術(shù)參數(shù)：

      控溫范圍:  300～1600°C（因?yàn)?*的氧氣接入設(shè)計(jì)，從而確保熔融溫度*高可達(dá)1600°C，特殊設(shè)計(jì)的燃燒頭，可在高達(dá)1600以上的溫度調(diào)節(jié)下操作，任何難熔樣品可輕易熔融）；
      熔 樣 量:  每批*多可同時(shí)處理6個(gè)樣品，可連續(xù)熔樣，每小時(shí)*多可處理30－42個(gè)樣品；
      熔樣時(shí)間:  處理一批樣品典型時(shí)間約為5－11分鐘（如：預(yù)熔1分鐘，旋轉(zhuǎn)熔融8 分鐘，均衡1分鐘）；
      功能控制:  自動(dòng)編程序邏輯控制器（PLC）能通過“單鍵”程序選擇完成7項(xiàng)編程(如鎳，鐵，錳，鉻等)，可選擇旋轉(zhuǎn)速度。
      支      架:  采用耐高溫合金；

Phoenix 總共有五種配置:

      •?PHOENIX 2000 : 4 個(gè)燃燒頭 – 熔融2個(gè)樣品/批
      •?PHOENIX 3000 : 6 個(gè)燃燒頭 – 熔融3個(gè)樣品/批
      •?PHOENIX 4000 : 8 個(gè)燃燒頭 – 熔融4個(gè)樣品/批
      •?PHOENIX 5000 : 10個(gè)燃燒頭 – 熔融5個(gè)樣品/批
      •?PHOENIX 6000 : 12個(gè)燃燒頭 – 熔融6個(gè)樣品/批

     尺寸: 高 310 mm × 深 630 mm × 寬 880 mm
     重量：75 - 90 kg
     電源: 110 或 240 VAC 50/60 Hz
     功率: 720 Watts

特點(diǎn)：

     • **的可靠性和完善的技術(shù)服務(wù)支持，
     • 自動(dòng)化和可重復(fù)的樣品準(zhǔn)備，
     • 快速熔融/制片，
     • 坩鍋和鑄模都有獨(dú)立的火爐和控制功能，
     • 每個(gè)火爐都可**控溫（從300到1600°C），
     • 出眾的均質(zhì)性，
     • 牢固耐用，低保養(yǎng)和修理費(fèi)用。

     靈活的程序設(shè)置：每個(gè)程序包括4個(gè)不同步驟，預(yù)熔(氧化)，熔融，混合/旋轉(zhuǎn)熔融，冷卻控制；
整個(gè)操控通過一組按鍵和一個(gè)真空熒光顯示屏(藍(lán)綠色)，每個(gè)程序可以通過按鍵輕松導(dǎo)出,屏幕會(huì)顯示每個(gè)單獨(dú)熔融階段的狀態(tài)。

靈活的熔融參數(shù)：

      通過控制器可對(duì)所有熔融參數(shù)方便地進(jìn)行設(shè)置:
     • 預(yù)熔溫度和時(shí)間，
     • 熔化溫度和時(shí)間，
     • 搖擺/混合速度和頻率，
     • 模具(鑄造盤)預(yù)熱溫度和時(shí)間，
     • 鑄造前暫停，
     • 鑄造角度,速度和時(shí)間，
     • 預(yù)冷時(shí)間和空氣流速，
     • 冷卻時(shí)間和空氣流速。